
PREV
NEXT
產品中心
PRODUCTS
真空電弧重熔爐
所屬分類
鈦合金真空熔煉設備
1
產品描述
1、原理
在真空環境下,電弧產生于自耗電極底部( 陰極)和坩堝底部(陽極)之間,當電弧形成,能夠迅速產生一個金屬熔池。電極底部和被熔化材料上部之間的電弧加熱區在確定的熔煉速率控制下被精確的保持。
在真空狀態下的電弧高溫熔煉能夠使金屬實現脫氣、除氧和清除雜質的作用,從而獲得純凈的金屬材料坯錠。熔化的金屬在水冷銅坩堝的作用下冷卻凝固,因此,高的熔化速率和電弧加熱區的精確控制,能保證熔化金屬凝固方向的一致性,并防止凝固產生宏觀偏析和減少微觀偏析的數量,大大提高了凝固錠料的金屬性能。
QVAR真空電弧熔煉爐主要用鈦,鋯等易氧化金屬及合金,鈮鉭等高溫難熔金屬及合金,精煉不銹鋼、高溫合金的熔煉、提純及鑄錠。
2、技術特點
2.1 爐型結構:一套電源配兩臺電弧爐
2.2 最大熔煉能力:15T (以鈦計)
2.3 最大熔煉電流:40KA
2.4 熔煉電壓:10V-60V
2.5 系統泄露率:1x10-6PaL/S
2.6 結晶器:水冷紫銅結晶器,法蘭組合式結構,方便裝卸;
2.7 電極桿:不銹鋼水冷套,內襯導電紫銅管;
2.8 非銅導電法蘭采用堆焊銅后加工處理,確保導電面接觸安全可靠,提高使用壽命;
2.9 真空機組配置油池過濾器,提高機組使用壽命,降低生產成本;
2.10 輔助導電裝置確保同軸供電;
2.11 對地絕緣處理,提高電效率,節省能源;
2.12 高清攝像360°監控電弧熔煉狀態
2.13 熔煉過程可自動或手動控制
3、規格型號

未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加
上一個
無
下一個
無
相關產品

高真空多靶磁控濺射鍍膜設備
?
?
1、產品描述
通過高真空多靶磁控濺射技術制備硬質薄膜、耐腐蝕摩擦薄膜、超導薄膜、磁性薄膜、光學薄膜、裝飾薄膜、以及各種具有特殊功能的材料表面改性薄膜;
?
2、設備特點及優點
通過陽極層離子源提高離化率,實現高效率和高品質薄膜輔助沉積;
通過脈沖偏壓反濺射/刻蝕清洗工件表面及偏壓電場輔助沉積。
配備濺射靶 4套,陽極層離子源1套

電極感應惰性氣體霧化制粉設備(QEIGA)
在高真空環境下充入高純惰性氣體,將預制合金棒通過爐外升降旋轉機構送入爐內錐型感應線圈內感應加熱熔化,束流熔滴直接流入特制的霧化器噴嘴系統,利用高壓惰性氣體進行霧化制粉的成套設備。具有無坩堝材料污染,粉體球型度高等優點。采用電極感應熔煉和惰性氣體霧化技術可以制備超純金屬粉末。
上一頁
1
下一頁
在線留言
Messages
客戶留言
描述: