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高真空多靶磁控濺射鍍膜設(shè)備
所屬分類
實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
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產(chǎn)品描述
1、產(chǎn)品描述
通過高真空多靶磁控濺射技術(shù)制備硬質(zhì)薄膜、耐腐蝕摩擦薄膜、超導(dǎo)薄膜、磁性薄膜、光學(xué)薄膜、裝飾薄膜、以及各種具有特殊功能的材料表面改性薄膜；
2、設(shè)備特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)
通過陽(yáng)極層離子源提高離化率，實(shí)現(xiàn)高效率和高品質(zhì)薄膜輔助沉積；
通過脈沖偏壓反濺射/刻蝕清洗工件表面及偏壓電場(chǎng)輔助沉積。
配備濺射靶 4套，陽(yáng)極層離子源1套
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高真空多靶磁控濺射鍍膜設(shè)備
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1、產(chǎn)品描述
通過高真空多靶磁控濺射技術(shù)制備硬質(zhì)薄膜、耐腐蝕摩擦薄膜、超導(dǎo)薄膜、磁性薄膜、光學(xué)薄膜、裝飾薄膜、以及各種具有特殊功能的材料表面改性薄膜；
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2、設(shè)備特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)
通過陽(yáng)極層離子源提高離化率，實(shí)現(xiàn)高效率和高品質(zhì)薄膜輔助沉積；
通過脈沖偏壓反濺射/刻蝕清洗工件表面及偏壓電場(chǎng)輔助沉積。
配備濺射靶 4套，陽(yáng)極層離子源1套
電極感應(yīng)惰性氣體霧化制粉設(shè)備（QEIGA）
在高真空環(huán)境下充入高純惰性氣體，將預(yù)制合金棒通過爐外升降旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)送入爐內(nèi)錐型感應(yīng)線圈內(nèi)感應(yīng)加熱熔化，束流熔滴直接流入特制的霧化器噴嘴系統(tǒng)，利用高壓惰性氣體進(jìn)行霧化制粉的成套設(shè)備。具有無坩堝材料污染，粉體球型度高等優(yōu)點(diǎn)。采用電極感應(yīng)熔煉和惰性氣體霧化技術(shù)可以制備超純金屬粉末。
真空感應(yīng)惰性氣體霧化制粉設(shè)備（QVIGA）
該系統(tǒng)采用有坩堝真空感應(yīng)熔煉技術(shù)熔化精煉金屬原料，并通過澆鑄機(jī)構(gòu)將熔融金屬液倒入預(yù)加熱中間包，從中間包導(dǎo)液管流入霧化噴嘴系統(tǒng)的細(xì)金屬流經(jīng)高壓惰性氣體射流后被霧化。熔融金屬和氣體射流的結(jié)合產(chǎn)生霧化液滴，在霧化塔中凝固并形成球形的細(xì)粉。其生產(chǎn)的粉體材料具有含氧量低，細(xì)粉收得率高，流動(dòng)性好等優(yōu)點(diǎn)。
雙模式真空感應(yīng)惰性氣體霧化制粉設(shè)備（QEVGA）
采用有坩堝底鑄式真空感應(yīng)熔煉及惰性氣體霧化法制備金屬及金屬合金的微晶或非晶球形粉末。適用于高溫合金、特殊鋼、銅合金、鋁合金等材料的粉體研發(fā)與制備。
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